一種用于光學薄膜千層納米復合倍增器
光學薄膜的性能評價通常涵蓋以下幾個方面：
一、光學性能
光學薄膜的核心性能，主要體現(xiàn)為具有反射、干涉、偏振等光學特性，這些性能決定了薄膜在光學系統(tǒng)中的關(guān)鍵作用。例如，反射膜用于增加鏡面反射率，常用來制造反光、折光和共振腔器件；減反射膜（又稱增透膜）則用于減少或消除透鏡、棱鏡等光學表面的反射光，增加透光量，減少系統(tǒng)的雜散光。此外，濾光膜用于光譜或其他光性的分割，具有復雜而多樣的結(jié)構(gòu)。
二、力學性能
力學性能是光學薄膜穩(wěn)定性的重要保障，包括耐磨性、拉伸強度、硬度等。這些性能決定了薄膜在實際應用中的耐久性和可靠性。例如，一些光學薄膜如光學級PC薄膜，具有出色的耐沖擊性和抗劃傷性能，可以保護顯示屏、觸摸屏等器件不受損壞。
三、化學穩(wěn)定性能
化學穩(wěn)定性能是光學薄膜抵抗化學侵蝕的能力，對于保證薄膜在復雜環(huán)境中的長期穩(wěn)定性至關(guān)重要。優(yōu)質(zhì)的光學薄膜應具備良好的化學穩(wěn)定性，能夠抵御酸堿、有機溶劑等化學物質(zhì)的侵蝕。
四、環(huán)境耐受性能
環(huán)境耐受性能是指光學薄膜在不同環(huán)境條件下的穩(wěn)定性和適應性。這包括溫度、濕度、光照等環(huán)境因素對薄膜性能的影響。優(yōu)質(zhì)的光學薄膜應具備在各種環(huán)境條件下保持性能穩(wěn)定的能力。
五、光損傷耐受性能
光損傷耐受性能是光學薄膜在強光照射下保持性能穩(wěn)定的能力。在激光系統(tǒng)等高強度光照條件下，光學薄膜必須具備良好的光損傷耐受性能，以確保系統(tǒng)的正常運行和穩(wěn)定性。
綜上所述，光學薄膜的性能評價涉及多個方面，這些性能相互關(guān)聯(lián)、相互影響，共同決定了薄膜在實際應用中的表現(xiàn)。在選擇和使用光學薄膜時，應根據(jù)具體的應用需求和環(huán)境條件，綜合考慮以上各方面性能，以確保薄膜能夠滿足使用要求并發(fā)揮最佳效果。
本發(fā)明一種用于光學薄膜領(lǐng)域，采用千層納米微積分復合倍增器，其原理結(jié)構(gòu)利用4倍倍增法，首先將AB兩種不同光波的材料，分別從2側(cè)流道進入倍增器。進行分流倍增，最終達到1024層納米微積分復合材料，由于2種不同光波的折射，依次錯開交叉折射，呈現(xiàn)彩虹效果，最后由C層原料將AB層包覆，得到1044層光學薄膜，用于3C電子產(chǎn)品屏幕，半導體通訊，以及裝飾投影領(lǐng)域。
結(jié)構(gòu)原理如下；
1.A原料與B原料通過S0分配器，依次形成A/B/A/B四層交叉分流進入S1
2.S1采用4層匯流結(jié)構(gòu)，依次形成16層，(A/B/A/B) (A/B/A/B ) (A/B/A/B) (A/B/A/B)
3.S1形成16層再進入S2的4層匯流結(jié)構(gòu)，依次形成A/B/A/B合計16X4=64層
4.S2形成64層再進入S3的4層匯流結(jié)構(gòu)，依次形成A/B/A/B合計64X4=256層
5.S3形成256層再進入S4的4層匯流結(jié)構(gòu)，依次形成A/B/A/B合計256X4=1024層
6.S4形成1024層再進入S5的分流結(jié)構(gòu)，由C原料將依次交叉的1024層原料包覆。
7.S5包裹AB材料，合計1024+2=1026層，最后進入S6出料口
8.S6連接T型模具，將匯合原料，均勻分散出來，形成片狀溶體，通過冷卻輥拉伸定型。
該倍增器優(yōu)勢在于，可以通過增加倍增器分層結(jié)構(gòu)以及倍增數(shù)量，改變微積分復合層數(shù)，可達到數(shù)千層以及上萬層交叉疊加，解決傳統(tǒng)的倍增方式受限于10層以內(nèi)復合的弊端，打破國外壟斷技術(shù)封鎖。
