導(dǎo)語(yǔ)
減反膜是一種能夠有效抑制光學(xué)反射的薄膜，廣泛應(yīng)用于激光器、太陽(yáng)能電池、建筑玻璃等領(lǐng)域。為了提高光子傳輸效率，通常會(huì)在光學(xué)透射窗口的基底上鍍制減反射涂層。溶膠-凝膠法因其操作簡(jiǎn)單、成本低廉而被廣泛使用。酸催化條件下制備的SiO?膜具有良好的機(jī)械強(qiáng)度和與基底的結(jié)合力，但其折射率較高，不適合直接作為理想的減反射薄膜材料。因此，研究者常采用模板劑制備介孔SiO?薄膜，以實(shí)現(xiàn)低折射率和高透射率。
研究方法
溶膠制備：使用正硅酸四乙酯（TEOS）作為前驅(qū)體，三嵌段共聚物F127和陽(yáng)離子聚合物納米乳液CPN作為模板劑，在酸催化的醇體系中制備SiO?溶膠。通過(guò)控制模板劑的用量，調(diào)節(jié)最終薄膜的孔隙率，從而得到具有折射率梯度的雙層薄膜。
薄膜制備：采用提拉法在石英基底上制備雙層寬譜帶減反射介孔SiO?膜。通過(guò)精確控制提拉速度，可以嚴(yán)格控制薄膜厚度。
膜系設(shè)計(jì)：利用Filmstar薄膜設(shè)計(jì)軟件構(gòu)建膜系結(jié)構(gòu)，優(yōu)化雙層膜的厚度及折射率，以實(shí)現(xiàn)寬譜帶的減反效果。
性能表征：使用原子力顯微鏡（AFM）、掃描電鏡（SEM）、透射電鏡（TEM）、N?吸附-脫附分析儀、紫外-可見-近紅外分光光度計(jì)等對(duì)薄膜形貌、結(jié)構(gòu)和光學(xué)性能進(jìn)行表征分析。
實(shí)驗(yàn)結(jié)果
光學(xué)性能：雙層介孔SiO?減反膜在300～800 nm范圍內(nèi)的平均透過(guò)率可高達(dá)98.9%，在350 nm處的紫外區(qū)透射率仍然高達(dá)98.5%以上。
微觀結(jié)構(gòu)：通過(guò)TEM和N?吸脫附測(cè)試分析薄膜的微觀孔道結(jié)構(gòu)。結(jié)果表明，內(nèi)層薄膜的孔隙結(jié)構(gòu)不明顯，而外層薄膜由于加入了更多的模板劑，焙燒后表面出現(xiàn)了更為明顯的孔隙結(jié)構(gòu)。外層薄膜的比表面積為583 m²/g，遠(yuǎn)高于內(nèi)層薄膜的199 m²/g，表明外層薄膜孔隙率的增加，其折射率也隨之降低，形成了相對(duì)折射率梯度。
表面形貌：AFM表征結(jié)果顯示，雙層減反膜表面的均方根粗糙度（Rq）值為3.77 nm，遠(yuǎn)小于可見光波長(zhǎng)，表明即使在紫外區(qū)，雙層涂層的表面和界面散射對(duì)透射率數(shù)據(jù)的影響也相對(duì)較小。
膜層厚度：通過(guò)橫截面SEM圖像確認(rèn)雙層減反膜中每層的膜厚，各層厚度與設(shè)計(jì)值存在很小的差別，說(shuō)明精確調(diào)控提拉速度可嚴(yán)格控制薄膜厚度。
關(guān)鍵結(jié)論
雙層介孔SiO?減反膜：通過(guò)控制模板劑的用量，成功制備了具有折射率梯度的雙層介孔SiO?減反膜，該膜在300～800 nm范圍內(nèi)的平均透過(guò)率達(dá)到98.9%，顯示出優(yōu)異的光學(xué)性能。
制備工藝：溶膠-凝膠法和提拉法的結(jié)合為雙層寬譜帶減反膜的制備提供了一種實(shí)用且可推廣的方法。
應(yīng)用前景：這種雙層介孔SiO?寬譜帶減反射薄膜有望滿足多個(gè)領(lǐng)域光學(xué)薄膜器件制作的應(yīng)用需求，具有廣泛的應(yīng)用前景。
結(jié)語(yǔ)
這項(xiàng)研究不僅提供了一種制備高性能雙層介孔SiO?減反膜的方法，而且通過(guò)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證了該膜層在寬光譜范圍內(nèi)的高透射率和良好的光學(xué)性能，為光學(xué)薄膜的應(yīng)用提供了新的可能性。
文獻(xiàn)原文
